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UHV-kompatible, optische Mess-Systeme

Aus UHV-tauglichen Materialien und Klebstoffen gefertigt, um niedrige Ausgasungsraten und eine saubere RGA zu erhalten. Ausbackungstemperatur von 120°C.

Berührungsloses, offenes, optisches System für den zuverlässigen Betrieb bei höchsten Geschwindigkeiten ganz ohne Reibung und Verschleiß. Digital- und Analogausgänge nach Industriestandard mit Auflösungen bis 1 nm.

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Fotomontage UHV UHV-Systeme von Renishaw sind für Vakuum bis zu 10^-11 TORR verwendbar. Das RGH25F UHV Mess-System wird mit dem Maßband RGS20-S sowohl zu Weg- als auch zu Teilrotationsmessungen eingesetzt. Der UHV-Abtastkopf RGH20F liefert hingegen in Verbindung mit dem Winkelmess-System RESR hochpräzise Winkelpositions-Rückmeldungen. TONiC™ UHV Wegmess-Systeme und TONiC™ UHV Winkelmess-Systeme wurden der Produktreihe seit dem zweiten Quartal 2010 hinzugefügt.

Die UHV Baureihe wurde für den Einsatz in UHV-Umgebung entwickelt, für Wafer dicing, wissenschaftliche Instrumente, Spektroskopie, Vakuumtestgeräte etc...

RGH25F UHV lineares Wegmess-System		RGH20F UHV Winkelmess-System		TONiC UHV Wegmess-System		TONiC UHV Winkelmess-System

Vorteile von UHV-Abtastköpfen

Aus UHV-tauglichen Materialien und Klebstoffen gefertigt, um niedrige Ausgasungsraten und eine saubere RGA zu erhalten
Ausbackungstemperatur von 120°C
Berührungsloses, offenes, optisches System für den zuverlässigen Betrieb bei höchsten Geschwindigkeiten ganz ohne Reibung und Verschleiß
Digital- und Analogausgänge nach Industriestandard mit Auflösungen bis 1 nm
Minimale Wärmeentwicklung durch niedrigen Stromverbrauch
Dichtungen mit Entlüftungsöffnungen
Adaptive Elektronik bietet hochgenaue, langfristige Zuverlässigkeit und einen geringen zyklischen Fehler (±50 nm mit RGH25F UHV und RGH20F UHV, ±30 nm mit TONiC UHV)
RFI-abgeschirmtes Kabel mit vakuumtauglicher, beschichteter Verdrahtung
TONiC UHV System verfügt über eine optische Referenzmarke

Erfahren Sie mehr...

RGH25F UHV vakuumtaugliches, lineares Wegmess-System
RGH20F UHV vakuumtaugliches Winkelmess-System
TONiC™ UHV vakuumtaugliches, lineares Wegmess-System
TONiC™ UHV vakuumtaugliches Winkelmess-System

Obsoleszenzerklärung

Bitte beachten Sie, dass sowohl die RGH25U und RGH25 UHV Abtastköpfe als auch das RGB-Interface aus der Produktion genommen und durch RGH25F, RGH25F UHV bzw. das REF-Interface ersetzt wurden.

Broschüren

[1.8MB] Broschüre: Berührungslose Mess-Systeme
Renishaw bietet Ihnen eine große Auswahl optischer und magnetischer Mess-Systeme in verschiedenen Ausführungen. In dieser Broschüre finden Sie lineare Wegmess-Systeme für hohe Verfahrgeschwindigkeiten, hochpräzise Winkelmess-Systeme, robuste magnetische Drehgeber-Systeme und laserinterferometrische Wegmess-Systeme.

Datenblätter

[311kB] Datenblatt: RGH25F Wegmess-System
Das RGH25F System bietet alle Vorteile der RG2 Baureihe: berührungslos, patentierte Filter-Optik, verschmutzungstolerant und hohe Geschwindigkeit.
[306kB] Datenblatt: RGH25U UHV, RGH25F UHV, RGH20F UHV - UHV-kompatible Mess-Systeme
Die neue Reihe vakuumkompatibler, optischer Wegmess-Systeme von Renishaw bietet alle Vorzüge der bewährten Baureihe RG2; berührungslose, patentierte Filteroptik, hervorragende Genauigkeit und hohe Geschwindigkeiten.
[321kB] Datenblatt: RGH20 Abtastkopf-Serie
Der RGH20 ist ein kompakter Abtastkopf zur Verwendung mit RESR Messringen und RSLR hochgenauen lineare Maßstäben.

Installationshandbuch

[1.3MB] Installationshandbuch: RGH25F hochauflösendes Wegmess-System
Der Abtastkopf RGH25F UHV wird über die RGF-Schnittstelle angeschlossen und erzeugt Auflösungen von 0,2 µm bis 10 nm.
[922kB] Installationshandbuch: RGH20 Abtastkopf-Serie

Technische Artikel

[123kB] News article: Renishaw scales facilitate micro-machining research [English]
Special equipment has recently been installed at the University of Southampton by Ionoptika Ltd., for research into one of the most demanding of applications; micro-machining. Among the highly specialised suppliers involved is Renishaw, whose RG2 scale and RGH25 UHV readheads provide the crucial means of positioning for the nanometric movements required. People outside this discipline often find it hard to comprehend just how minute such work is – for example, Ionoptika’s full company logo can be etched 20 μm wide on a typical metallic screen mask.

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